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硅靶材專用硅粉
濺射靶材是指通過真空鍍膜設(shè)備濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。根據(jù)生產(chǎn)方法可以分為粉末靶、熔煉靶和噴涂靶；按照形狀可以分為平面靶材和管狀靶材。高純硅作為粉末靶和噴涂硅靶材的原料，其純度越高越有助于靶材獲得均勻的晶體結(jié)構(gòu)保證靶材的性能，同時提高硅原料利用率。
硅含量：百分之99.9-百分之99.999（3-5N）
粒度：0-3000目
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